公元2013年，盛夏的深夜，深川。

启明芯中央研究院，“启明芯-国家光刻材料联合实验室”的核心控制室内，

那阵如同火山爆发般猛烈的、压抑了许久的欢呼与泪水，在持续了近十分钟后，才渐渐平息下来。

但每一个人的脸上，依旧残留着激动到极致的潮红，每一个人的眼中，都闪烁着如同星辰般明亮的光芒。

成功了！他们真的成功了！

顾维钧这位在启明芯德高望重、平日里不苟言笑的技术元老，

此刻也再也无法抑制内心的激动。他小心翼翼地从光刻机中取出那片刚刚完成了28纳米线宽图形曝光和刻蚀的12英寸硅晶圆，双手因为激动而微微颤抖。

他将晶圆捧在手中，如同捧着一件稀世珍宝，

又像是在端详着一个刚刚诞生的、凝聚了他无数心血的孩子。

在超高倍率的原子力显微镜下，那在硅片表面上蚀刻出来的、宽度仅有28纳米的密集沟槽线路，边缘陡峭如刀削斧劈，侧壁光滑平整，几乎没有任何毛刺和缺陷！

其线边缘粗糙度（LER）和关键尺寸均匀性（CDU）等核心指标，

甚至比他们之前高价从东瀛进口的、作为对照基准的顶级商用光刻胶，还要略胜一筹！

“完美……这简直是……完美的艺术品！”

一位来自华科院化学所的、参与配方研发的老院士，看着显微镜下那令人叹为观止的微观形貌，声音哽咽，老泪纵横。

他知道，为了这一刻，他和他的团队，以及整个联合实验室的数百名科研人员，付出了多少个不眠之夜的汗水与智慧！

“秦组长，立刻组织对V9.9配方的所有关键参数进行重复验证！”

顾维钧强压住内心的激动，沉声下令，

“我们不仅要确保实验结果的偶然成功，更要确保其在不同批次、不同工艺窗口下的稳定性和可重复性！这，才是衡量一款光刻胶是否真正具备产业化价值的黄金标准！”

是的，实验室的灵光一闪，只是万里长征的第一步。

要将这凝聚了无数顶尖智慧的“神农一号光刻胶配方V9.9”，从脆弱的实验室明星，真正锻造成能够支撑华夏半导体产业自主崛起的“国之重器”，

还有一条更加漫长、也更加艰险的道路要走。

在接下来的数周时间内，整个联合实验室再次进入了战时状态。

科研人员们三班倒，以近乎“自虐”般的严苛标准，对V9.9配方的核心组分的合成工艺、提纯技术、配比精度、以及最终光刻胶成品的理化性能，进行了数以千次计的重复实验和交叉验证。

每一次实验数据，都会被实时上传到启明芯总部的“伏羲”AI超算平台。

“伏羲”则利用其强大的数据分析和机器学习能力，帮助科研人员快速识别出影响光刻胶性能稳定性的关键工艺参数和潜在风险点，并给出针对性的优化建议。