2013年，盛夏的深川，依旧溽热难当。

但启明芯中央研究院内，那间肩负着华夏光刻胶“凤凰涅盘”使命的启明芯-国家光刻材料联合实验室里，

气氛却比室外任何一个角落都要更加炽热和……专注。

顾维钧，这位在启明芯内部以严谨、务实、且对技术细节追求到极致而着称的元老级技术大牛，

此刻正身着厚重的无尘服，站在一台最先进的原子力显微镜（AFM）前，

神情专注地观察着刚刚完成28纳米图形转移的硅晶圆表面，那如同微缩城市般精密复杂的纳米级线路。

他的额头上，渗着细密的汗珠，眼中布满了血丝，显然又是一个通宵未眠。

在他身后，是同样全神贯注的、来自华科院化学所、华清大学、以及启明芯材料科学部门的核心研发骨干。

他们每一个人，都在为了一个共同的目标，燃烧着自己的智慧与激情。

神农一号光刻胶配方V9.9在实验室取得28纳米线宽图形验证的成功，

确实给整个团队带来了巨大的鼓舞，也向国家最高层传递了强烈的信心。

但顾维钧和林轩都非常清楚，这，仅仅是一个开始。

实验室的惊鸿一瞥，与真正能够在大规模集成电路制造产线上，

稳定、可靠、高效地进行数十万、数百万次重复曝光与刻蚀，

并始终保持极高良品率和极低缺陷密度的“工业级”光刻胶，两者之间，还隔着一条比马里亚纳海沟还要深邃的技术鸿沟！

“V9.9配方，在分辨率和线边缘粗糙度（LER）上，确实达到了世界一流水平。”

顾维钧放下手中的测试报告，声音带着一丝沙哑，“但是，它的工艺窗口，还是太窄了！”

所谓的“工艺窗口”，指的是光刻胶在实际生产过程中，

对曝光能量、显影时间、烘烤温度等关键工艺参数变化的容忍度。

工艺窗口越宽，意味着光刻胶对产线环境的细微波动越不敏感，良品率也就越容易控制。

而V9.9配方，虽然在理想的实验室条件下表现惊艳，

但一旦工艺参数稍有偏差，其成像质量便会急剧下降，甚至出现图形畸变或缺陷。

“还有，它的储存稳定性，也需要进一步提升。”

另一位负责材料表征的专家补充道，

“我们发现，V9.9配方在室温下放置超过72小时后，

其部分核心光敏成分会出现微量的降解，导致其感光灵敏度和分辨率略有下降。